GCCD01B（单动态450幅面，尺寸定制）
特点：
1.支持32寸-100寸加工，100寸以上支持定制 ；
2. 三维动态聚焦蚀刻机工作时，第三轴根据加工位置实时移动，大幅面加工幅面内激光蚀刻线性均匀度更高；
3. 单次加工幅面450mmx450mm，线宽可达到35μm。可定制500mmx500mm及更大尺寸
优势：
1.动态聚焦可有效解决材料印刷偏位问题，提升良率；
2.可实现异形排版单料纠偏；
3.单次加工幅面大，无需多次拼接，提升精度；
4.相比非动态设备，加工速度更快
5.可配备自动上下料系统
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加工对象 |
电容屏 |
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加工材料 |
银浆、ITO、CNT、石墨烯等 |
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蚀刻材料厚度/蚀刻线宽 |
35μm ~45μm （视具体材料材质与膜厚及膜厚均匀度而定） |
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线性度 |
±3μm |
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综合定位精度 |
±10μm（排除材料印刷误差） |
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重复加工精度 |
±2μm |
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拼接精度 |
±5μm |
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工作平台面积 |
定制 |
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有效加工面积 |
定制 |
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定位方式 |
双CCD自动定位 |
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加工速度 |
≤4500 mm/s（视具体材料而定） |
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最大单PCS加工范围 |
450 mm×450 mm |
