GCCD02B（双动态450幅面，尺寸定制）
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GCCD02B（双动态450幅面，尺寸定制）
特点：
1.支持32寸以上触控面板蚀刻, 定制加工尺寸
2. 三维动态聚焦蚀刻机工作时，第三轴根据加工位置实时移动，大幅面加工幅面内激光蚀刻线性均匀度更高；
3. 双振镜加工，速度快，效率高；
4.单次加工幅面450mmx890mm，线宽可达到35μm
优势：1.动态聚焦可有效解决材料印刷偏位问题，提升良率；
2.可实现异形排版单料纠偏；
3.单次加工幅面大，无需多次拼接，提升精度；
4.相比非动态设备，加工速度更快
5.可配备自动上下料系统 - 应用于大尺寸电容屏导线及可视区蚀刻，特别适用于银浆、ITO、CNT、石墨烯、纳米银、碳纳米管、高分子导电膜/玻璃等片材或卷材璃等片材或卷材
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加工对象
电容屏
加工材料
银浆、ITO、CNT、石墨烯等
蚀刻材料厚度/蚀刻线宽
35μm ~45μm
（视具体材料材质与膜厚及膜厚均匀度而定）
线性度
±3μm
综合定位精度
±10μm（排除材料印刷误差）
重复加工精度
±2μm
拼接精度
±5μm
工作平台面积
定制
有效加工面积
定制
定位方式
双CCD自动定位
加工速度
≤4500 mm/s（视具体材料而定）
最大单PCS加工范围
450 mm×890 mm（据实际线宽要求而定）
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